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四氟化碳

纯度:99.999%

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基本信息:

 四氟化碳 纯度:99.999%

 中文名称:四氟化碳

 中文别名:四氟甲烷

 CAS号:75-73-0

 EINECS:200-896-5

 分子式:CF4

 分子量:88

 物化性质:- 熔点:-184℃

 相对密度:1.603

 溶解性:不溶于水 

用途:用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂

物理性质:


化学性质:

 

相对分子量88.00。在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高,是最稳定的有机化合物之一,不易溶于水。

 

在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。

四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。

 

对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

 

在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

 

由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

 

四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。、

 

四氟化碳有时会用作低温冷却剂。它可用于电路板的制造,以及制造绝缘物质和半导体。它是用作气体蚀刻剂及等离子体蚀刻版。

四氟化碳成品应存放在阴凉,干燥,通风的库房内,严禁曝晒,远离热源。

吸入四氟化碳的后果与浓度有关,包括头痛、恶心、头昏眼花及心血管系统的破坏(主要是心脏)。长时间接触会导致严重的心脏破坏。

四氟化碳的密度比较高,可以填满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。